半导体先进制程发展扩大EUV市场需求,ASML可望持续受惠
在先进制程纳米节点持续微缩下,光刻机是重要关键设备,半导体光刻机设备市场规模主要有3家设备供应商:ASML、Nikon及Cannon。。
在先进制程纳米节点持续微缩下,光刻机是重要关键设备,半导体光刻机设备市场规模主要有3家设备供应商:ASML、Nikon及Cannon。。
就在7纳米制程节点以下先进制程的领域,必不可少的关键就是极紫外线微影(EUV)设备导入。除了三星用在首代7纳米LPP制程,台积电也自2019年开始,将EUV导入加强版7纳米+制程。
三星即将在 30 日推出由 7 纳米 EUV 制程所量产的Exynos 行动处理器,相信就是目前市场上传说的新一代 Exynos 9825 行动处理器。
三星即将在 30 日推出由 7 纳米 EUV 制程所量产的Exynos 行动处理器,相信就是目前市场上传说的新一代 Exynos 9825 行动处理器。
4月16日,三星官网发布新闻稿,宣布已经完成5纳米FinFET工艺技术开发,现已准备好向客户提供样品,已开始向客户提供5纳米多项目晶圆服务。与7纳米工艺相比,三星的5纳米FinFET工艺技