ASML开发新一代EUV设备 预计2025年量产
为了因应制程微缩的市场需求,全球主要生产EUV设备的厂商ASML正积极开发下一代EUV设备,就是High-NA(高数值孔径)EUV产品,预计几年内就能正式量产。
为了因应制程微缩的市场需求,全球主要生产EUV设备的厂商ASML正积极开发下一代EUV设备,就是High-NA(高数值孔径)EUV产品,预计几年内就能正式量产。
就在7纳米制程节点以下先进制程的领域,必不可少的关键就是极紫外线微影(EUV)设备导入。除了三星用在首代7纳米LPP制程,台积电也自2019年开始,将EUV导入加强版7纳米+制程。
全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔(ASML)18日发布2019年第一季财报。第一季销售净额(net sales)为22亿欧元,净收入(net income)3.55亿欧元,毛利率(gross margin)41.6%。因逻辑芯片客户需求强劲