半导体先进制程发展扩大EUV市场需求,ASML可望持续受惠
在先进制程纳米节点持续微缩下,光刻机是重要关键设备,半导体光刻机设备市场规模主要有3家设备供应商:ASML、Nikon及Cannon。。
在先进制程纳米节点持续微缩下,光刻机是重要关键设备,半导体光刻机设备市场规模主要有3家设备供应商:ASML、Nikon及Cannon。。
就在7纳米制程节点以下先进制程的领域,必不可少的关键就是极紫外线微影(EUV)设备导入。除了三星用在首代7纳米LPP制程,台积电也自2019年开始,将EUV导入加强版7纳米+制程。
全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔(ASML)18日发布2019年第一季财报。第一季销售净额(net sales)为22亿欧元,净收入(net income)3.55亿欧元,毛利率(gross margin)41.6%。因逻辑芯片客户需求强劲