上海新阳:未来50-10年集中各种资源研发半导体光刻胶
上海新阳已经确定在未来5-10年,将集中各种资源,对国内尚属空白的各类高端半导体光刻胶和光刻胶配套材料进行研发,逐步形成公司第三大核心技术-电子光刻技术。
上海新阳已经确定在未来5-10年,将集中各种资源,对国内尚属空白的各类高端半导体光刻胶和光刻胶配套材料进行研发,逐步形成公司第三大核心技术-电子光刻技术。
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