半导体联盟消息,2020年2月20日,三星电子宣布,其位于韩国华城的新尖端半导体生产线已开始批量生产。
据三星官网介绍,该工厂V1是三星第一条致力于极紫外(EUV)光刻技术的半导体生产线,采用7纳米以下的工艺制程生产芯片。该生产线于2018年2月破土动工,并于2019年下半年开始测试晶圆生产,三星表示,第一批产品将于今年第一季度交付给客户。
三星电子公司总裁兼晶圆代工业务主管ES Jung说: “随着产量的增加,V1生产线将强化三星响应市场需求的能力,并扩大为客户提供支持的机会。”
V1生产线目前正在生产采用7纳米和6纳米工艺制程生产的最先进的移动芯片,并将继续采用更精细的电路,直至3纳米工艺节点。
根据三星的计划,到2020年底,V1生产线的累计总投资将达到60亿美元,预计7纳米及以下工艺制程的总产能将比2019年增长三倍。
三星电子指出,采用EUV技术将为次世代应用(例如:5G、人工智能、汽车电子等)提供最佳选择。
随着V1生产线的投入使用,三星目前在韩国和美国共有6条晶圆代工生产线,其中包括5条12英寸生产线和1条8英寸生产线。
以下为三星代工厂的全球制造基地:
Source:三星官网
封面图片来源:三星电子