半导体联盟消息，近日南大光电在互动平台透露，宁波南大光电目前已安装完成第一条ArF（193nm）光刻胶生产线，该产线仍处于调试阶段。目前，研发的产品正在测试、认证过程中，尚未形成量产和销售。
2019年7月，南大光电在互动平台透露，公司设立光刻胶事业部，并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”，全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”落地实施。
2019年10月，南大光电公告称，公司与宁波经济技术开发区管理委员会签署了《投资协议书》，拟在宁波经济技术开发区投资开发高端集成电路制造用各种先进光刻胶材料以及配套原材料和底部抗反射层等高纯配套材料，形成规模化生产能力，建立配套完整的国产光刻胶产业链。该项目计划总投资6亿元，预计总用地50亩。项目完全达产后，预计实现约10亿元的年销售额，年利税预计约2亿元。
资资料显示，南大光电主要从事高纯电子材料研发、生产和销售，通过承担国家重大技术攻关项目并实现产业化。目前，公司形成MO源、电子特气、ALD/CVD前驱体材料等业务板块。值得注意的是，2017年，南大光电还承担了集成电路芯片制造用关键核心材料之一的“193nm光刻胶材料的研发与产业化项目”（以下简称193nm光刻胶项目）。
对于两个光刻胶项目之间的联系，南大光电此前在公告中强调，“ArF光刻胶开发和产业化项目”与“193nm光刻胶材料的研发与产业化项目”系两个独立的项目。公司称，投建新项目是为加大对先进光刻胶材料以及配套原材料的建设。
